PVD涂层主要包括多弧电镀和磁控溅射电镀。该多弧电镀设备结构简单,易于操作。其离子蒸发源可由电焊机供电,引弧过程也类似于电焊。具体地说,在一定的工艺压力下,引弧针与蒸发离子源短暂接触,并断开与放电气体的连接。由于多弧电镀的原因主要是通过连续移动弧斑在蒸发源表面连续形成熔池,使金属蒸发沉积在衬底上得到..
2020-06-20真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面。它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,吸收电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的新技术。简而言之,在真空中蒸发或溅射金属、合金或化合物以固化并沉积在涂覆物体(称为基材、基材或基底)上的方法称为真空涂覆..
2020-06-13DLC涂层可应用于钻头和铣刀,尤其是金属掺杂的DLC涂层,它不仅具有高硬度,而且具有低摩擦系数和抗有色金属粘附性。荷兰豪泽公司制备的金属掺杂类金刚石薄膜涂层用于切割高强度铝合金时,可以降低表面的所谓BUE效应。结果,延长了刀具的使用寿命,并且切割后工件材料的表面是光滑的。特别是在干切削和深孔加工中..
2020-06-04PVD涂层是指在真空条件下使用低电压、大电流电弧放电技术,使用气体放电来蒸发目标并电离蒸发的物质和气体,以及使用电场加速将蒸发的物质及其反应产物沉积在工件上。PVD涂层是一个复杂的过程,特别是应用于工具和模具的PVD涂层要求涂层的所有方面都有很高的性能。在涂布过程中,许多因素会影响涂层的性能。 1..
2020-05-29众所周知,只要在某些材料的表面镀上一层薄膜,这些经过材料的表面真空镀膜就可以具有许多新的良好的物理和化学性质。20世纪70年代,电镀和化学镀是物体表面涂层的主要方法。在前者中,电解质通过通电而被电解,并且被电解的离子被镀在用作另一电极的基板的表面上。因此,衬底必须是良导体,并且膜的厚度难以控制。 ..
2020-05-22不同沉积方法制备的DLC涂层的硬度和弹性模量差异很大。用磁过滤阴极电弧法可以制备硬度达到或超过金刚石的类金刚石薄膜。阴极电弧法制备的DLC涂层的最高硬度可达50GPa以上,而离子源结合非平衡磁控溅射法制备的DLC涂层的硬度可达21GPa。膜层中的成分对膜层的硬度有一定的影响。硅和氮的加入可以提高类金..
2020-05-16众所周知,只要在某些材料的表面镀上一层薄膜,这些材料就可以具有许多新的良好的物理和化学性质。20世纪70年代,电镀和化学镀是物体表面涂层的主要方法。在前者中,电解质通过通电而被电解,并且被电解的离子被镀在用作另一电极的基板的表面上。因此,衬底必须是良导体,并且膜的厚度难以控制。后者是一种化学还原方法..
2020-05-09对装饰物品进行PVD涂层的目的主要是为了改善工件的外观和装饰性能及颜色,同时使工件更加耐磨、耐腐蚀,延长其使用寿命。主要应用于五金行业的各个领域,如门窗五金、锁具、卫浴五金等行业。工具上PVD涂层的目的主要是提高工件的表面硬度和耐磨性,降低表面摩擦系数,提高工件的使用寿命。这方面主要应用于各种切削工..
2020-04-25DLC涂层是一种非晶薄膜。DLC涂层由于其高硬度、高弹性模量、低摩擦系数、耐磨性和良好的真空摩擦学性能,非常适合作为耐磨涂层,引起了摩擦学界的关注。不同沉积方法制备的DLC涂层的硬度和弹性模量差异很大。用磁过滤阴极电弧法可以制备硬度达到或超过金刚石的DLC涂层。阴极电弧法制备的DLC涂层的最高硬度可..
2020-04-18