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类金刚石薄膜(DLC薄膜)的制备发展历史

有相关化学知识的人都知道,石墨在常温下是一种非常稳定的同素异形体,它是由碳原子以sp2杂化键方式而形成三配位键合结构;而金刚石在常温下则没有石墨这么稳定。从热动力学上讲,石墨的形成优于金刚石的形成,从而意味着sp2杂化键只能在非平衡过程中形成。

类金刚石薄膜(DLC薄膜)是由亚稳态材料形成,在制备的方法中必须要有荷能离子轰击生长表面这一关键。自1971年美国科学家Aisenberg和Chabot利用碳离子束沉积出类金刚石薄膜(DLC薄膜)以来,人们也对物理气相沉积和化学气相沉积以及液相法制备类金刚石薄膜(DLC薄膜)的方法和技术不断改进和研究。

至今,在对类金刚石薄膜(DLC薄膜)的制备技术和上也有了很大的突破。人们可以通过气相法和沉积法轻松的制备类金刚石薄膜(DLC薄膜)。类金刚石薄膜(DLC薄膜)的制备技术目前广泛用于电子、机械、宇航、装饰、和信息等领域。我国类金刚石薄膜(DLC薄膜)的制备技术正处于不断发展和完善阶段,有着巨大市场潜力。

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