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你了解真空镀膜的技术分类吗

 今天我们就一起来了解一下真空镀膜的技术分类。

  一、真空镀膜的物理气相沉积技术是指在真空条件下,利用各种物理方法,将镀料气化成原子、分子或离子,直接沉积在基体表面的方法。制备硬质反应膜多采用物理气相沉积方法制作,利用物质热蒸发、离子轰击时物质表面原子溅射等物理过程,实现物质原子从源物质到膜的控制转移过程。物理气相沉积技术具有薄膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度控制性好、应用靶材广、溅射范围广、可沉积薄膜、成分稳定的合金薄膜和重复性好等优点。同时,物理气相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下,可作为高速钢和硬质合金类薄膜刀具的结束处理工艺。由于采用物理气相沉积技术可以大大提高刀具的切削性能,人们在竞争开发高性能、高可靠性设备的同时,对其应用领域的扩展,特别是高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具的应用进行了更深入的研究。


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  二、化学气相沉积技术是将含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体,利用气相作用或基体表面的化学反应,在基体上制作金属或化合物薄膜的方法,主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和CVD和PVD兼具特征的等离子化学气相沉积等。

  那么今天的讲解就先到这里了,相信大家对真空镀膜的技术分类也有了一定的认识。非常感谢您的耐心阅读。


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