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致力于高端涂层技术的研究和推广
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DLC是一种由碳元素组成的物质，在性质上类似于DIAMOND-LIKECRBON。DLC是一种非晶膜，因其硬度高、弹性模量大、摩擦因数低、耐磨性好、真空摩擦性好，非常适合作为耐磨涂层，引起了摩擦界的重视。目前制备DLC膜的方法很多，不同制备方法使用的碳源和到达基体表面的离子能量不同，沉积的DLC涂层结构和性能差别很大，摩擦性能也不同。下面就来了解一下DLC涂层沉积设备的系统组成都有哪些？
一、热水冷却系统。在沉积室内，加热系统和水冷系统均布于沉积室四周，可控制加热温度、速度和水量，并设有相应的报警器，旋转系统设在沉积室底部，绝缘陶瓷绝缘，旋转速度可控。
二、真空系统。本机由机械泵、罗茨泵、扩散泵及相应的控制阀、测量元件组成，可根据工艺要求自由切换高、低真空。
三、供气系统。煤气供应系统位于沉积室顶部，气体种类包括H2、N2、Ar、CHa、C2H2、Si气体，同时在沉积室顶部预留两个通道接口，便于日后添加其它气体。含有Si的过渡层是已确认的有利于DLC涂层与基体结合力的一种涂层，为得到Si，通常使用SiH4作为原料气，但SiH4却具有较高危险性，因此采用SiH4作为Si的含Si气体源。
四、沉积靶系统。该装置主要用于沉积DLC(类金刚石)，它所使用的电源是一个脉冲调制电源，每一个参数都可连续调节，通过调节不同的硬度和厚度，可以开发出不同硬度、不同厚度的DLC涂层，同时通过调整工件的装卡方式，可形成多种“功能层+DLC”涂层。
五、电控系统。电控系统采用PLC全自动控制，包括上位机、PLC可编程序控制器、适配转换器、控制电源、真空控制电源和测量系统、气控电源、温控系统、冷却水检测控制电源等。开炉前，在工艺编辑界面上编辑涂层工艺和存档，开炉时可呼叫工艺要求，设备将自动运行，并进行实时检测和监控。如有问题设备会自动报警，根据警报等级设备选择“等待”或直接停止，直到警报解除后继续运行。各炉子的运行记录和报警记录自动存入计算机中方便查阅。按要求，可将设备改为全手工操作，涂布过程中在主操作界面调整各涂布参数。
那么今天的讲解就先到这里了，以上就是今天的全部内容，相信大家对DLC涂层沉积设备的系统组成也有了一定的认识。非常感谢您的耐心阅读。如还想了解更多关于DLC涂层的相关问题，您可以拨打右上角的服务热线，与我们咨询。
DLC是一种由碳元素组成的物质，在性质上类似于DIAMOND-LIKECRBON。DLC是一种非晶膜，因其硬度高、弹性模量大、摩擦因数低、耐磨性好、真空摩擦性好，非常适合作为耐磨涂层，引起了摩擦界的重视。目前制备DLC膜的方法很多，不同制备方法使用的碳源和到达基体表面的离子能量不同，沉积的DLC涂层结构和性能差别很大，摩擦性能也不同。下面就来了解一下DLC涂层沉积设备的系统组成都有哪些？
一、热水冷却系统。在沉积室内，加热系统和水冷系统均布于沉积室四周，可控制加热温度、速度和水量，并设有相应的报警器，旋转系统设在沉积室底部，绝缘陶瓷绝缘，旋转速度可控。
二、真空系统。本机由机械泵、罗茨泵、扩散泵及相应的控制阀、测量元件组成，可根据工艺要求自由切换高、低真空。
三、供气系统。煤气供应系统位于沉积室顶部，气体种类包括H2、N2、Ar、CHa、C2H2、Si气体，同时在沉积室顶部预留两个通道接口，便于日后添加其它气体。含有Si的过渡层是已确认的有利于DLC涂层与基体结合力的一种涂层，为得到Si，通常使用SiH4作为原料气，但SiH4却具有较高危险性，因此采用SiH4作为Si的含Si气体源。
四、沉积靶系统。该装置主要用于沉积DLC(类金刚石)，它所使用的电源是一个脉冲调制电源，每一个参数都可连续调节，通过调节不同的硬度和厚度，可以开发出不同硬度、不同厚度的DLC涂层，同时通过调整工件的装卡方式，可形成多种“功能层+DLC”涂层。
五、电控系统。电控系统采用PLC全自动控制，包括上位机、PLC可编程序控制器、适配转换器、控制电源、真空控制电源和测量系统、气控电源、温控系统、冷却水检测控制电源等。开炉前，在工艺编辑界面上编辑涂层工艺和存档，开炉时可呼叫工艺要求，设备将自动运行，并进行实时检测和监控。如有问题设备会自动报警，根据警报等级设备选择“等待”或直接停止，直到警报解除后继续运行。各炉子的运行记录和报警记录自动存入计算机中方便查阅。按要求，可将设备改为全手工操作，涂布过程中在主操作界面调整各涂布参数。
那么今天的讲解就先到这里了，以上就是今天的全部内容，相信大家对DLC涂层沉积设备的系统组成也有了一定的认识。非常感谢您的耐心阅读。如还想了解更多关于DLC涂层的相关问题，您可以拨打右上角的服务热线，与我们咨询。